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HWN-P1500納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方...
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HWN-L2新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-L1新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結...
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公司簡介:蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業園區創業人才項目"的支持下，于2011年注冊成立的高科技創新型公司，公司由歸國和國內的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部（國家重大大科學儀器設備開發專項)和姑蘇、江蘇省雙創人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持，并于2012年6月完成首輪風險融資，并成功研發出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統，2015年被認定為高新技術企業。公司近年來，不斷加大研發力度，已經定型了LDW-P和LDW-L兩大系列新型激光直寫設備，實現了激光直寫設備的更新換代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
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在現代納米技術與微電子制造領域，納米激光光刻系統作為一種高精度的加工工具，正逐漸成為推動科技進步的關鍵力量。它不僅能夠實現亞微米乃至納米級別的精細圖案制作，還在多個高科技領域展現了廣泛的應用潛力。應用領域廣闊納米激光光刻系統主要應用于半導體芯片制造、光學元件加工、生物醫學研究以及新材料開發等領域。在半導體工業中，它是制造集成電路（ICs）的工具之一，能夠精確地在硅片上刻畫出復雜的電路圖案，支持從微米級到納米級的設計需求。對于光學元件而言，該系統可以用來生產高精度透鏡、濾波器等...
查看詳細在信息時代的浪潮中，納米光電子設備正悄然改變著我們的生活。這些肉眼難見的微小器件，承載著人類對光速通信和高效計算的追求，在微觀世界中編織著未來的藍圖。一、科技之光納米光電子設備的核心在于將光子學與納米技術結合。通過精密的納米制造工藝，在亞波長尺度上操控光子的行為，實現了傳統電子器件難以企及的性能。在信息處理領域，納米光子芯片展現出巨大潛力。其利用光子代替電子進行信息傳輸和處理，不僅速度更快，而且能耗更低，為突破摩爾定律提供了新的可能。量子點、等離子體激元等新型納米結構的應用，...
查看詳細在微納制造領域，無掩模納米光刻機猶如一位自由的藝術家，擺脫了傳統掩模的束縛，在納米尺度上盡情揮灑創意。這種先進的制造設備正在重塑微納加工的面貌，為多個科技領域帶來革命性的變革。一、解放制造的無限可能在半導體研發中，無掩模光刻機展現出優勢。它能夠快速實現芯片設計的驗證和修改，大大縮短了研發周期。新型存儲器和邏輯器件的開發都受益于這種靈活的制造方式。在新型顯示技術領域，這種設備用于制造高分辨率OLED像素陣列和量子點顯示器件。其高精度和靈活性特別適合新型顯示技術的研發和小批量生產...
查看詳細在微納制造領域，光刻技術是制造高精度器件的核心工藝。無掩模納米光刻機以其高靈活性、高精度和高效性，成為現代微納制造的“自由之筆”。本文將探討無掩模納米光刻機的工作原理、技術特點及其在科技發展中的重要意義。一、無掩模納米光刻機的工作原理無掩模納米光刻機是一種無需使用物理掩模即可實現高精度圖案化的光刻設備。其核心原理是通過計算機控制的激光束或電子束直接在光刻膠表面進行曝光，形成所需的微納結構。具體工作流程如下：圖案設計通過計算機軟件設計所需的微納圖案，并將其轉換為光刻機可識別的數...
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